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负偏压对含氢类金刚石薄膜性能的影响
文献摘要：
为了解决类金刚石(DLC)薄膜与金属基材间的界面结合强度问题,本研究采用直流等离子体增强化学气相沉积(DC-PECVD)技术,以等时长、不同偏压条件在45钢基材上沉积复合DLC薄膜.采用扫描电镜、原子力显微镜观察薄膜形貌;采用拉曼光谱仪分析薄膜成分;采用涂层附着力自动划痕仪测定膜基结合强度.结果表明:制备偏压从-600 V～-1200 V变化时,复合DLC薄膜表面粗糙度增大,薄膜总厚度增加,总膜厚最大为16.3μm;氢含量降低,石墨相对含量增加,过渡层DLC与顶层DLC膜间的结构成分差异减小.在等时长沉积条件下,随着制备负偏压的增加,复合DLC薄膜残余应力增大,结合力减小,结合力最大为54.5 N左右.顶层DLC膜制备偏压为-600 V～-800 V时综合性能较优.
文献关键词：
DC-PECVD;负偏压;H-DLC;多峰拟合;结合力
中图分类号：
作者姓名：
郑锦华;刘青云;李志雄
作者机构：
郑州大学 机械与动力工程学院热能系统节能技术与装备教育部工程研究中心,河南 郑州 450001;河南晶华膜技真空科技有限公司,河南 焦作 454150
文献出处：
引用格式：
[1]郑锦华;刘青云;李志雄-.负偏压对含氢类金刚石薄膜性能的影响)[J].光学精密工程,2022(04):411-420
A类：
多峰拟合
B类：
负偏压,含氢,类金刚石薄膜,膜性能,DLC,金属基,界面结合强度,等离子体增强化学气相沉积,DC,PECVD,压条,钢基材,原子力显微镜,薄膜形貌,拉曼光谱,光谱仪,涂层附着力,划痕,膜基结合强度,表面粗糙度,氢含量,含量降低,相对含量,过渡层,成分差异,沉积条件,残余应力,结合力,膜制备
AB值：
0.313838
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