典型文献
超光滑光学元件表面在真空环境下的污染物沉积特性研究
文献摘要：
在高能、高功率激光系统光路中的超光滑光学元件上的高反射薄膜表面出现污染时,会导致光学元件的损伤,激光透过率下降,影响激光传输质量,并降低光学元件的损伤阈值,制约系统的负载能力和高通量稳定运行能力.为了尽可能减少元件表面污染物的沉积,对污染物沉积特性进行研究显得尤为重要.对密闭玻璃腔中超光滑元件表面的污染物沉积特性进行了研究,利用原子力显微镜和傅里叶红外光谱仪对不同手段处理后的样品进行测试和分析,实验结果表明,随着放置时间的增加,表面污染物的沉积越来越多.这种污染物中可能含有—NH化学键,会引起超光滑元件表面粗糙度的变化,可以使用酒精、丙酮或铬酸清洗,或者氧气氛围中等离子体放电等手段有效去除,但高温烘烤对污染物的消除没有明显的效果.根据上述实验结果,结合光学元件加工流程的综合分析,认为造成零件表面污染的原因是光学元件加工过程中残留的物质,在真空环境下缓慢释放所致.因此,对于洁净度要求极高的超光滑光学原件,在加工过程中尽可能地使用容易被简单溶剂消除的辅料,并在完成加工后减少贮存时间,尽快进入清洗工序,可以有效提升光学元件洁净度.
文献关键词：
真空环境;超光滑;污染物;有机物;表面粗糙度
中图分类号：
作者姓名：
鲍浪;李定;车驰骋;李钱陶;王强;郭岩龙;王保峰
作者机构：
华中光电技术研究所—武汉光电国家研究中心,湖北武汉430223
文献出处：
引用格式：
[1]鲍浪;李定;车驰骋;李钱陶;王强;郭岩龙;王保峰-.超光滑光学元件表面在真空环境下的污染物沉积特性研究)[J].光学与光电技术,2022(03):77-82
A类：
B类：
超光滑,真空环境,沉积特性,高功率激光系统,光路,高反射,激光透过率,激光传输,传输质量,低光,损伤阈值,负载能力,运行能力,尽可能减少,表面污染,密闭,中超,原子力显微镜,傅里叶红外光谱,红外光谱仪,放置时间,NH,化学键,表面粗糙度,丙酮,铬酸,等离子体放电,高温烘烤,根据上述,光学元件加工,加工流程,零件,加工过程,洁净度,原件,辅料,工后,贮存时间,清洗工序
AB值：
0.307277
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