典型文献
制备工艺对氟化物憎水薄膜性能的影响
文献摘要：
研究不同工艺条件对憎水薄膜光学和憎水性能的影响.采用电子束热蒸发技术,通过控制镀膜的工艺参数(沉积温度、工作真空度、沉积速率),制备了不同的憎水薄膜.分析了不同条件下薄膜的折射率、消光系数和憎水性能,对膜系结构G/2HL/A的增透膜的透过率进行了测试分析.针对550 nm波长,当沉积温度从室温升高至180℃,憎水薄膜的的折射率的变化范围为1.4595-1.5559,消光系数变化范围为3.46×10-3-6.8×10-3,憎水角的变化范围为85.1°-119.3°,结果表明,随着沉积温度的提高,薄膜的折射率随之增大,消光系数略有提高但影响不大,薄膜的憎水性能先提高后降低.工作真空度从3 x 10-2 Pa提高到1×10-2 Pa,憎水膜的折射率变化范围为1.4136-1.5476,消光系数变化范围为3.94×10-3-5.3×10-3,憎水角的变化范围为97.3°-119.3°,结果表明,随着工作真空度的提升,薄膜的折射率随之增大,憎水性能随之下降.当沉积速率从0.33增加到0.91 nm/s,薄膜的折射率变化范围为1.494 6-1.583 8,消光系数为4.14×10-3-7.87×10-3,憎水角的变化范围为106.6°-119.3°,结果表明,随着沉积速率的提高,薄膜的折射率也得到增加,薄膜的消光系数略有提升,其值相差不大.在沉积温度160℃,工作真空度1×10-2 Pa和沉积速率0.51 nm/s时,薄膜的憎水性能最好,憎水角高达119.3°.采用最佳工艺参数,在增透膜表面镀制厚度10 nm左右的憎水膜,在400-800 nm处,单面镀膜的平均透过率,由95.28％变为95.31％,变化量仅为0.03％,憎水角可达119.2°,结果表明,薄膜不仅具有良好的光学性能,同时具有良好的憎水能力.
文献关键词：
憎水膜;折射率;消光系数;工艺优化;憎水角;增透膜
中图分类号：
作者姓名：
袁松松;徐均琪;苏俊宏;刘祺
作者机构：
西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室 西安710021
文献出处：
引用格式：
[1]袁松松;徐均琪;苏俊宏;刘祺-.制备工艺对氟化物憎水薄膜性能的影响)[J].真空科学与技术学报,2022(09):705-712
A类：
工作真空,2HL,憎水角,憎水膜
B类：
制备工艺,氟化物,膜性能,不同工艺,工艺条件,薄膜光学,憎水性,电子束,热蒸发,镀膜,沉积温度,真空度,沉积速率,不同条件下,消光系数,膜系,增透膜,透过率,测试分析,温升高,变化范围,Pa,折射率变化,最佳工艺参数,单面,变化量,光学性能,水能
AB值：
0.151267
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