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双离子束溅射ITO薄膜在电磁屏蔽窗口中的应用
文献摘要：
为了研究ITO薄膜在宽角度电磁屏蔽激光窗口中的应用效果,采用双离子束溅射镀膜技术在不同工艺条件下制备了ITO薄膜,根据薄膜的光电性能测试结果,分析了氧气流量、辅助离子源、基片烘烤温度等工艺条件对ITO薄膜透光性和导电性的影响.用Ti2O3和SiO2作为高、低折射率材料,ITO薄膜作为电磁屏蔽膜层,在K9玻璃基片上设计了对2～18GHz电磁波高效屏蔽的0°～45°宽角度入射的1064nm激光窗口膜层,并利用双离子束溅射技术在合适的工艺条件下完成了薄膜的制备.测试结果显示,制备的薄膜透光性和电磁屏蔽性能良好,具有一定的耐酸性,适合作为高效电磁屏蔽、0°～45°宽角度入射的1064nm激光窗口膜层.
文献关键词：
双离子束溅射;ITO薄膜;电磁屏蔽;宽角度入射;激光窗口
中图分类号：
作者姓名：
王松林;杨崇民;张建付;李明伟;米高园;赵红军;贾雪涛
作者机构：
西安应用光学研究所,陕西 西安 710065
文献出处：
引用格式：
[1]王松林;杨崇民;张建付;李明伟;米高园;赵红军;贾雪涛-.双离子束溅射ITO薄膜在电磁屏蔽窗口中的应用)[J].真空,2022(03):46-51
A类：
电磁屏蔽窗口,电磁屏蔽膜
B类：
双离子束溅射,ITO,口中,激光窗口,镀膜,膜技术,不同工艺,工艺条件,光电性能测试,氧气流量,离子源,基片,烘烤温度,透光性,导电性,Ti2O3,SiO2,折射率,膜层,K9,玻璃基,18GHz,电磁波,波高,宽角度入射,1064nm,下完,电磁屏蔽性能,耐酸性
AB值：
0.261282
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