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原子层沉积技术原理及在航天领域的应用现状
文献摘要：
原子层沉积(ALD)是一种高精度涂层制备的技术,薄膜膜厚可以实现原子水平的生长.该技术在薄膜厚度的控制、膜厚均匀性、复杂形状构件的覆盖程度等方面具有很大的优势,被认为是制备高致密度涂层非常有效的方法.本文通过对原子层沉积技术特征、关键技术问题和原子层沉积技术在航天相关领域应用的最新动态进行综述.针对原子层沉积技术反应温度窗口的确定和提高沉积速率两项关键技术,提出分别采用基于第一性原理的理论研究方法和空间原子层沉积技术(SALD)的技术路径,为原子层沉积技术在航天领域进一步发展和应用方向提供思路.
文献关键词：
原子层沉积;涂层厚度;高致密度;温度窗口;沉积速率
中图分类号：
作者姓名：
高恒蛟;熊玉卿;张文台;张凯锋;曹生珠;成功
作者机构：
兰州空间技术物理研究所真空技术与物理重点实验室 兰州 730010
文献出处：
引用格式：
[1]高恒蛟;熊玉卿;张文台;张凯锋;曹生珠;成功-.原子层沉积技术原理及在航天领域的应用现状)[J].真空科学与技术学报,2022(04):237-243
A类：
SALD
B类：
原子层沉积,沉积技术,技术原理,航天领域,涂层制备,薄膜厚度,膜厚均匀性,复杂形状,高致密度,技术特征,新动态,反应温度,温度窗口,沉积速率,第一性原理,技术路径,应用方向,涂层厚度
AB值：
0.264988
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