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高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)过程特征的物理解析
文献摘要：
高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)作为一种新的物理气相沉积技术,得到学术界和工业界的广泛关注.HiPIMS中靶峰值能量密度高而平均能量密度低,从而避免了传统磁控溅射中靶过热所导致的靶材融化等问题.独特的放电特性使得HiPIMS具有高等离子体密度和电离率,为控制沉积粒子能量和输运模式提供了可能性,可以实现高质量薄膜的制备.本文综述了 HiPIMS系统的电源特性(与脉冲发生相关)、放电参数(脉宽、放电电压、电流、频率等)和放电空间(分为阴极靶和鞘层区、电离区域、体等离子体区、以及阳极等离子体和衬底区)中所涉及放电特征的物理本质及其解析,这将有助于加强对HiPIMS技术物理机制的深入理解,推进该技术在实际工业中的应用.
文献关键词：
高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS);放电特性;等离子体参数;放电空间;物理机制
中图分类号：
作者姓名：
霍纯青;谢世杰;宋润伟;季英希;陈强
作者机构：
海南大学材料科学与工程学院 海口 570228;北京印刷学院等离子体物理与材料研究室 北京102600
文献出处：
引用格式：
[1]霍纯青;谢世杰;宋润伟;季英希;陈强-.高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)过程特征的物理解析)[J].真空科学与技术学报,2022(05):330-346
A类：
B类：
高功率脉冲磁控溅射,HiPIMS,物理气相沉积,沉积技术,工业界,中靶,能量密度,密度高,射中,靶材,融化,放电特性,等离子体密度,电离,输运模式,电源特性,放电参数,脉宽,放电电压,放电空间,阴极,鞘层,离区,阳极,衬底,放电特征,物理本质,技术物,物理机制,等离子体参数
AB值：
0.332157
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