典型文献
面向IC光刻的超精密运动台控制技术
文献摘要：
对于步进扫描投影光刻机,掩模台和工件台的同步伺服性能将直接影响整机技术指标.掩模台和工件台是典型的六自由度超精密运动台,在耦合动力学、复杂内外部干扰条件下兼顾高动态和超精密运动是其核心控制难题,研究和发展面向集成电路光刻的超精密运动台控制技术对于实现高端光刻机国产化具有重要意义.本文首先阐述高端光刻机对超精密运动台的伺服性能需求以及实现这些需求所面临的技术挑战,然后从解耦控制、反馈控制、前馈控制、协同控制和轨迹生成五个方面回顾光刻机超精密运动台控制相关研究成果与最新进展,并对其现存的问题和发展方向进行评述.
文献关键词：
光刻机;多自由度运动台;超精密运动控制
中图分类号：
作者姓名：
刘杨;李理;陈思文;谭久彬
作者机构：
哈尔滨工业大学超精密仪器技术及智能化工信部重点实验室,黑龙江哈尔滨150001
文献出处：
引用格式：
[1]刘杨;李理;陈思文;谭久彬-.面向IC光刻的超精密运动台控制技术)[J].激光与光电子学进展,2022(09):223-243
A类：
步进扫描投影,多自由度运动台,超精密运动控制
B类：
IC,光刻机,掩模,工件台,伺服,整机,技术指标,六自由度,耦合动力学,外部干扰,干扰条件,高动态,集成电路,国产化,性能需求,技术挑战,解耦控制,反馈控制,前馈控制,协同控制,轨迹生成,最新进展
AB值：
0.222013
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