典型文献
氮化硅集成微腔光频梳器件关键制备技术
文献摘要：
微腔光频梳，又称微腔梳，是通过腔内四波混频过程产生的一种高相干宽谱的集成光源，有着优异的时频特性，可用于超精密分子光谱、相干通信、激光雷达、轻型化装备等测量应用，是基础科学、计量学及军事装备的重要工具，是一项颠覆性的技术。报道了一种集成氮化硅（Si3N4）微腔光频梳器件制备的关键技术，提出了一种方法平衡Si3N4的应力、厚度和化学计量之间的矛盾，以满足反常色散和减少双光子吸收的要求。利用这种改进的大马士革工艺微结构降低Si3N4厚膜的应力，减少应力缺陷对器件性能的影响，实现高品质Si3N4薄膜的可控制备。在微腔刻蚀工艺中，采用30 nm氧化铝牺牲层补偿掩模抗刻蚀能力，实现微环和波导侧壁粗糙度小于15 nm，满足了微腔高Q值的要求。经双光泵浦测量得到1 480~1 640 nm波段内的宽光谱高相干克尔光频梳。
文献关键词：
集成微腔光梳;氮化硅;大马士革工艺;器件
中图分类号：
作者姓名：
朱振东;林平卫;孙朝阳;白本锋;王雪深
作者机构：
中国计量科学研究院，北京 100029;清华大学 精密仪器系，北京 100084
文献出处：
引用格式：
[1]朱振东;林平卫;孙朝阳;白本锋;王雪深-.氮化硅集成微腔光频梳器件关键制备技术)[J].红外与激光工程,2022(05):
A类：
微腔光频梳,大马士革工艺,集成微腔光梳
B类：
氮化硅,制备技术,四波混频,光源,时频特性,超精密,分子光谱,相干通信,激光雷达,轻型化,化装,测量应用,基础科学,军事装备,颠覆性,Si3N4,器件制备,化学计量,反常,色散,双光子吸收,厚膜,器件性能,可控制备,刻蚀工艺,氧化铝,掩模,波导,侧壁,粗糙度,光泵浦,波段,宽光谱,克尔
AB值：
0.317776
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