典型文献
恒光强扫描干涉光刻条纹锁定系统设计
文献摘要：
为提高扫描干涉光刻机的加工效率和加工精度、扩大加工范围、降低维护成本,提出了一种可实现干涉条纹周期、方向和相位同步实时调节控制的扫描干涉光刻机系统方案,并着重介绍了最为关键的恒光强干涉条纹相位锁定系统的设计.首先,介绍了扫描干涉光刻中干涉条纹周期、方向和相位同步实时调节控制的扫描干涉光刻机系统原理方案,并设计实现了恒光强外差声光移频式干涉条纹相位锁定控制系统.然后,分析了控制系统理论模型,对系统实际模型进行辨识和高阶线性拟合,并设计了系统控制器.最后,在该控制器的基础上开展了调试和条纹锁定控制.实验结果显示,开启条纹锁定控制后,100 Hz以下的低频扰动成分受到明显抑制,干涉图形相位锁定的残余误差为0.0693 rad(3σ),即相位变化小于±0.01个干涉条纹周期;光束偏移调控误差达到100μm时,干涉条纹锁定性能仍能保持稳定.该系统不仅可实现不同干涉姿态下干涉条纹的高精度锁定,还具有较大的光束调控误差裕度,满足干涉条纹周期、方向和相位同步实时控制的扫描干涉光刻机的需求.
文献关键词：
扫描干涉光刻;条纹锁定;外差相位测量干涉仪
中图分类号：
作者姓名：
王磊杰;罗伟文;张鸣;朱煜
作者机构：
清华大学机械工程系摩擦学国家重点实验室&精密超精密制造装备及控制北京市重点实验室,北京100084;电子科技大学,四川成都611731
文献出处：
引用格式：
[1]王磊杰;罗伟文;张鸣;朱煜-.恒光强扫描干涉光刻条纹锁定系统设计)[J].光学精密工程,2022(08):938-947
A类：
扫描干涉光刻,干涉光刻,条纹锁定,外差相位测量干涉仪,相位测量干涉仪
B类：
光刻机,加工效率,加工精度,大加,降低维护成本,干涉条纹,相位同步,实时调节,机系统,系统方案,系统原理,设计实现,声光,移频,锁定控制,系统理论,线性拟合,系统控制,干涉图,形相,rad,相位变化,光束偏移,移调,光束调控,裕度,实时控制
AB值：
0.184615
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