典型文献
衍射光学元件成套制造技术研究进展
文献摘要：
从图形数据处理、先进光刻、图形转移和大面积高可靠集成4方面开展衍射光学元件关键制造技术研究.在兼容标准CMOS工艺的基础上,提出了高精度、多功能(高保真、高深宽比、高面形、多元化衬基等)、大面积衍射光学元件成套制造技术.研发了精度优于2 nm的复杂图形光刻数据处理体系,提出了混合光刻方法,建立了加法(剥离、电镀)和减法(干法刻蚀、金属辅助化学刻蚀)两种类型、四种图形转移基础方法.实现了从微米尺度到亚10 nm尺度的图形生成,高宽比达12:1的25 nm Au结构和深宽比达500:1的30 nm Al2O3纳米管图形转移.在熔石英、多层膜、SiC自支撑薄膜、高面形硅片等衬基上大面积集成制造了多种衍射光学元件,最大面积为142 mm×142 mm,最大自支撑口径达70 mm,最高面形精度PV值达0.03λ,覆盖了可见光到硬X射线波段衍射光学元件的制造需求,能够应用于先进光刻机、同步辐射、激光聚变及X射线天文学中.
文献关键词：
衍射光学元件;先进光刻;标准CMOS工艺;GDSII数据处理;图形转移
中图分类号：
作者姓名：
谢常青
作者机构：
中国科学院微电子研究所微电子器件与集成技术重点实验室,北京100029
文献出处：
引用格式：
[1]谢常青-.衍射光学元件成套制造技术研究进展)[J].光学精密工程,2022(15):1815-1827
A类：
GDSII
B类：
衍射光学元件,成套,套制,形数,先进光刻,图形转移,高可靠,关键制造技术,CMOS,高保真,高深宽比,复杂图形,加法,电镀,减法,干法刻蚀,化学刻蚀,微米尺度,图形生成,高宽比,比达,Au,Al2O3,纳米管,熔石英,多层膜,SiC,自支撑,硅片,集成制造,口径,面形精度,PV,可见光,线波,波段,光刻机,同步辐射,激光聚变,天文学
AB值：
0.325565
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