典型文献
电子束光刻研制高分辨X射线波带片透镜最新进展
文献摘要：
首先综述了当前X射线透镜的分辨率和效率的水平,预测并讨论了发展我国波带片透镜、赶超国际先进水平的技术路径图.在原有100 nm分辨率波带片和会聚透镜工艺基础上,综述了电子束光刻结合金电镀进一步发展30～70 nm分辨率的X射线波带片的最新进展.在研发30 nm分辨率的波带片中.电子束光刻中的邻近效应严重限制了波带高宽比,而现有商业软件(基于蒙特卡罗模型和显影动力学)的邻近效应修正在同时处理从微米到30 nm的各种图形时效果甚微.为此,本团队针对70 nm分辨率的硬X射线波带片采用了图形修正法,实现了20:1的波带高宽比,针对50 nm分辨率的硬X射线波带片采用了分区域修正法,获得了 15:1的波带高宽比;30 nm波带片透镜的金属化摒弃了传统的直流电镀工艺,采用脉冲金电镀,实现了金环均匀电沉积,成功研制了 30 nm分辨率的软X射线波带片透镜和30～100 nm的大高宽比分辨率测试卡.所有研制的波带片透镜在上海同步辐射装置得到了 X射线光学成像验证.
文献关键词：
X射线光学;X射线波带片透镜;X射线显微成像系统;电子束光刻纳米加工;30 nm分辨率;分区域/图形法邻近效应修正;脉冲金电镀工艺
中图分类号：
作者姓名：
陈宜方
作者机构：
复旦大学信息科学与工程学院,上海200433
文献出处：
引用格式：
[1]陈宜方-.电子束光刻研制高分辨X射线波带片透镜最新进展)[J].光学学报,2022(11):74-88
A类：
图形修正,电子束光刻纳米加工,脉冲金电镀工艺
B类：
线波,波带片,最新进展,赶超,国际先进,技术路径,路径图,会聚透镜,邻近效应,商业软件,蒙特卡罗,微米,甚微,本团,正法,金属化,摒弃,直流电,电沉积,大高宽比,同步辐射,光学成像,显微成像,成像系统,形法
AB值：
0.179419
相似文献
机标中图分类号，由域田数据科技根据网络公开资料自动分析生成，仅供学习研究参考。
