典型文献
高通量激光纳米直写技术
文献摘要：
激光直写技术因具有灵活的三维微纳结构加工制造能力,在工业以及各个科学领域中得到广泛应用,但要进入亚100 nm乃至亚50 nm尺度,实现高通量的三维纳米制造还是当前的技术难题.而这在后摩尔时代光电混合集成与多层堆叠集成高度发展的今天显得极为重要.从光学成像的角度,这个问题的核心就是要获得大视场和高分辨信息,即信息带宽积的最大化,在激光直写技术中,就是要实现高通量和高分辨刻写.本文将论述激光直写技术的发展,介绍本课题组在高通量激光纳米直写方向的研究进展.
文献关键词：
激光器;光刻;激光物质相互作用;微纳制备
中图分类号：
作者姓名：
刘旭;匡翠方
作者机构：
浙江大学现代光学仪器国家重点实验室,浙江杭州310027;之江实验室,浙江杭州311121
文献出处：
引用格式：
[1]刘旭;匡翠方-.高通量激光纳米直写技术)[J].光学学报,2022(17):294-302
A类：
激光物质相互作用
B类：
激光直写技术,微纳结构,加工制造,制造能力,科学领域,但要,维纳,纳米制造,技术难题,后摩尔时代,混合集成,堆叠,天显,光学成像,大视场,刻写,激光器,光刻,微纳制备
AB值：
0.304678
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