典型文献
原子层沉积制备非晶氧化铝薄膜及其光谱椭偏
文献摘要：
采用原子层沉积(ALD)技术在200℃下制备了不同厚度的氧化铝薄膜,并利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、能量色散光谱仪(EDS)和原子力显微镜(AFM),对薄膜的晶相、组分以及形貌结构进行测试分析,利用光谱椭偏仪采用Forouhi-Bloomer(F-B)色散模型分析了波长300～800 nm内薄膜结构和光学特性.实验结果表明,氧化铝薄膜为非晶态结构,氧和铝原子数之比维持在5左右;薄膜表面光滑无裂纹,粗糙度稳定在1.5 nm左右.随着薄膜厚度的增加,折射率和消光系数均增大,这主要是薄膜厚度增加时,薄膜层内空气的体积分数减小和a-AlOx 密度提升所致.F-B拟合厚度与SEM测试结果基本一致,ALD制备的α-AlOx薄膜的生长速率约为每循环0.1 nm,F-B模型获得的粗糙度更小(约为0.5nm).α-AlOx 薄膜光学性能优异且利用ALD易于制备,可为研究其他类似的氧化物提供参考.
文献关键词：
非晶态氧化铝;原子层沉积(ALD);光谱椭偏分析;Forouhi-Bloomer(FB)模型;色散模型
中图分类号：
作者姓名：
石树正;马立勇;王占英
作者机构：
河北建筑工程学院机械工程学院,河北张家口 075000;张家口市特种设备智慧监测运维技术创新中心,河北张家口 075000
文献出处：
引用格式：
[1]石树正;马立勇;王占英-.原子层沉积制备非晶氧化铝薄膜及其光谱椭偏)[J].微纳电子技术,2022(11):1218-1225,1241
A类：
Forouhi,Bloomer,非晶态氧化铝,光谱椭偏分析
B类：
原子层沉积,氧化铝薄膜,ALD,能量色散,散光,光谱仪,EDS,原子力显微镜,AFM,晶相,形貌结构,测试分析,利用光,色散模型,薄膜结构,光学特性,态结构,原子数,之比,表面光,无裂纹,粗糙度,薄膜厚度,折射率,消光系数,加时,膜层,AlOx,生长速率,5nm,薄膜光学,光学性能,FB
AB值：
0.286136
相似文献
机标中图分类号，由域田数据科技根据网络公开资料自动分析生成，仅供学习研究参考。
