典型文献
新型MPCVD沉积模式制备高均匀性的D100mm金刚石薄膜
文献摘要：
频率为2.45 GHz的微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)装置能够沉积直径超过60 mm的金刚石薄膜,但由于MPCVD技术中等离子体的半球形分布特点,很难保证沉积出均匀性好的大尺寸薄膜,调整等离子体分布可以在一定程度上解决这一问题.基于数值模拟的研究发现,衬底边缘悬空产生的间隙能够形成空心阴极放电,提高边缘薄膜的沉积率,优化均匀性.检测结果表明,D100 mm金刚石薄膜上80个点的厚度方差值从4.5×10-4降低到5.0×10-5,证明薄膜的均匀性得到提高.金刚石薄膜表面热应力分布更均匀,厚度极值差从70μm降低到30μm,从而降低了薄膜在研磨抛光中产生裂纹的可能性.在较低的沉积压力下,薄膜生长的均匀性和质量均有提升,极值差只有10μm.
文献关键词：
数值模拟;MPCVD;均匀性;边缘弱空心阴极效应;金刚石膜
中图分类号：
作者姓名：
张帅;安康;杨志亮;邵思武;陈良贤;魏俊俊;刘金龙;郑宇亭;李成明
作者机构：
北京科技大学 新材料技术研究院,北京 100083;北京科技大学 顺德研究生院,广东 佛山 528399
文献出处：
引用格式：
[1]张帅;安康;杨志亮;邵思武;陈良贤;魏俊俊;刘金龙;郑宇亭;李成明-.新型MPCVD沉积模式制备高均匀性的D100mm金刚石薄膜)[J].真空与低温,2022(05):549-555
A类：
D100mm,边缘弱空心阴极效应,空心阴极效应
B类：
MPCVD,沉积模式,高均匀性,金刚石薄膜,GHz,微波等离子体化学气相沉积,半球形,难保,大尺寸,衬底,底边,悬空,空心阴极放电,缘薄,沉积率,热应力分布,极值,研磨抛光,沉积压力,薄膜生长,金刚石膜
AB值：
0.258928
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