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声表面波器件光刻的衍射效应研究
文献摘要：
声表面波(SAW)器件光刻过程中,制作的光刻胶线条宽度与掩模版不一致,特别是不同宽度的非均匀线条光刻后线宽变化值存在偏差.该文研究了接近式曝光衍射效应对线宽的影响,分析了掩模版上线条和缝隙宽度、衍射光强、掩模版与光刻胶间距等参数间的关系.结果表明,通过建立光学模型给出了计算曝光后不同线条宽度变化值的方法,采用程序编程可对掩模版数据中不同尺寸的线条和缝隙宽度进行补偿,实现SAW器件非均匀线条宽度的精确控制.
文献关键词：
声表面波(SAW)器件;光刻;衍射效应;线宽
中图分类号：
作者姓名：
孟腾飞;陈晓阳;段英丽;于海洋;周培根;王永安
作者机构：
北京航天微电科技有限公司,北京 100854;北京无线电测量研究所,北京 100854
文献出处：
引用格式：
[1]孟腾飞;陈晓阳;段英丽;于海洋;周培根;王永安-.声表面波器件光刻的衍射效应研究)[J].压电与声光,2022(02):246-249
A类：
B类：
声表面波器件,衍射效应,SAW,光刻胶,线条宽度,掩模版,非均匀,均匀线,线宽,曝光,光衍射,缝隙,数间,同线,不同尺寸,精确控制
AB值：
0.228919
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