典型文献
Zr靶功率对(WMoTaNb)ZrxN薄膜微观组织及性能的影响
文献摘要：
目的 提高(WMoTaNb)ZrxN薄膜的硬度与弹性模量、膜基结合力、摩擦磨损及抗烧蚀性能.方法 采用反应磁控溅射技术,通过对Zr靶功率的调控,在单晶Si和M2高速钢基体上制备不同Zr含量的(WMoTaNb)ZrxN薄膜.采用FESEM对薄膜的表面及截面形貌进行观察,利用XRD对薄膜的物相组成进行分析,采用纳米压痕仪、划痕仪和摩擦磨损试验机分别对薄膜的硬度、膜基结合力及摩擦磨损性能进行表征,通过氧–乙炔烧蚀试验对薄膜的抗烧蚀性能进行测定.结果(WMoTaNb)ZrxN薄膜主要由FCC和BCC固溶体结构组成,Zr元素引入后,薄膜FCC(200)晶面衍射峰消失,FCC(111)与(311)晶面衍射峰强度增强.随着Zr靶功率的增加,薄膜中Zr元素含量逐渐增加,薄膜的硬度与弹性模量先增大、后减小,膜基结合力呈现不规律变化,薄膜的抗烧蚀性能逐渐提升.薄膜的摩擦系数随着Zr靶功率的增加而增大,但维持在0.65～0.95.当Zr靶功率为40 W时,制备的薄膜硬度、弹性模量及膜基结合力均达到最大,分别为27.9 GPa、291.3 GPa、84 N,此时薄膜的磨痕深度最小为227 nm.结论 Zr靶功率为40 W时制备的薄膜硬度、弹性模量、膜基结合力、摩擦磨损与抗烧蚀性能最佳.
文献关键词：
反应磁控溅射;(WMoTaNb)ZrxN薄膜;硬度;膜基结合力;摩擦学性能;抗烧蚀性能
中图分类号：
作者姓名：
曹丽娜;邵文婷;陈建;王富强;武上焜;杨巍;要玉宏;刘江南
作者机构：
西安工业大学 材料与化工学院,西安 710021
文献出处：
引用格式：
[1]曹丽娜;邵文婷;陈建;王富强;武上焜;杨巍;要玉宏;刘江南-.Zr靶功率对(WMoTaNb)ZrxN薄膜微观组织及性能的影响)[J].表面技术,2022(09):160-167
A类：
WMoTaNb,ZrxN
B类：
微观组织,组织及性能,弹性模量,膜基结合力,抗烧蚀性能,反应磁控溅射,磁控溅射技术,单晶,Si,M2,高速钢,FESEM,截面形貌,物相组成,纳米压痕,压痕仪,划痕,摩擦磨损试验机,摩擦磨损性能,乙炔,FCC,BCC,固溶体,结构组成,素引,晶面,衍射峰强度,元素含量,摩擦系数,GPa,磨痕,摩擦学性能
AB值：
0.200435
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