典型文献
双级高功率脉冲磁控溅射N2流量对TiN镀层结构及性能的影响
文献摘要：
研究提出一种新型的双级高功率脉冲磁控溅射技术,通过合理调配双级脉冲电场参数在不同N2流量条件下制备了TiN镀层并对其微观结构及性能进行分析.结果表明,随着N2流量由10 mL/min逐渐增加至40 mL/min时,TiN镀层的择优取向由(111)晶面逐渐转变为(220)晶面、表面形貌由多方向棱角的锥状结构转变为紧密结合的圆胞状结构,镀层均呈现柱状晶的生长方式且平均晶粒尺寸为纳米级,当氮气流量为20mL/min时镀层N/Ti原子比最接近标准值1,镀层组织结构最为致密且具有最优的力学性能和膜基结合性能;同时,利用新型的双级高功率脉冲磁控溅射技术可有效改善传统高功率脉冲磁控溅射平均沉积速率较低的技术缺憾,当N2流量为20 mL/min时可达到46.35 nm/min.
文献关键词：
双级;高功率脉冲磁控溅射;N2流量;TiN镀层
中图分类号：
作者姓名：
郝娟;杨超;丁郁航;张静;王旭;杜玉洲;马丽;蒋百灵
作者机构：
西安理工大学 材料科学与工程学院,陕西 西安710048
文献出处：
引用格式：
[1]郝娟;杨超;丁郁航;张静;王旭;杜玉洲;马丽;蒋百灵-.双级高功率脉冲磁控溅射N2流量对TiN镀层结构及性能的影响)[J].稀有金属材料与工程,2022(11):4109-4116
A类：
双级脉冲电场
B类：
N2,TiN,镀层结构,高功率脉冲磁控溅射技术,择优取向,晶面,表面形貌,多方向,棱角,结构转变,胞状结构,柱状晶,平均晶粒尺寸,纳米级,氮气流量,20mL,原子比,标准值,结合性能,沉积速率,缺憾
AB值：
0.21943
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