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光刻投影物镜畸变检测技术
文献摘要：
光刻投影物镜的畸变是影响光刻机套刻精度最重要的因素之一,畸变会导致物镜的横向放大率随视场的增大而变化,曝光到硅片上的图形相对于其理想位置发生偏移,从而引起套刻误差.在物镜的装调和使用过程中都需要对畸变进行检测和优化调整,而目前高端光刻投影物镜的畸变小于1nm,对其进行高精度检测是该领域的难点.对三种常用的光刻机畸变检测技术(曝光检测、空间像检测和波前检测)的原理和特点进行了分析,并对其发展方向进行了展望.对于16～19 nm及16 nm以下的光刻节点,多通道检测技术是提高畸变检测精度与速度的重要发展方向.
文献关键词：
测量与计量;光刻术;畸变检测;曝光;空间像传感器;相位测量干涉仪
中图分类号：
作者姓名：
曹译莎;唐锋;王向朝;刘洋;冯鹏;卢云君;郭福东
作者机构：
中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室,上海201800;中国科学院大学材料科学与光电工程中心,北京100049
文献出处：
引用格式：
[1]曹译莎;唐锋;王向朝;刘洋;冯鹏;卢云君;郭福东-.光刻投影物镜畸变检测技术)[J].激光与光电子学进展,2022(09):206-222
A类：
横向放大率,光刻术,空间像传感器,相位测量干涉仪
B类：
投影物镜,畸变检测,光刻机,机套,视场,曝光,硅片,形相,理想位置,装调,优化调整,畸变小,1nm,高精度检测,波前检测,多通道,检测精度,测量与计量
AB值：
0.268795
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