典型文献
压电陶瓷锁焦性能对光刻曝光均匀性的影响
文献摘要：
在激光直写光刻系统中,锁焦性能是影响光刻系统曝光均匀性的关键因素之一.研究了压电陶瓷作为光刻系统中的锁焦执行器时的动态响应特性,并对其在极坐标光刻系统中对曝光均匀性的影响作了探索.在探索过程中,发现了压电陶瓷对一般非简谐信号的动态响应结果和其对特征简谐信号的动态响应结果之间的非线性关系,并通过样品曝光实验验证了这个非线性关系的正确性.利用该非线性关系量化计算出了使用该压电陶瓷能够满足锁焦要求的旋转台最高的工作转速,同时指导压电陶瓷生产商针对性地优化了适合本极坐标光刻系统的压电陶瓷的动态响应特性,优化后的压电陶瓷的锁焦能力提高了 125.2％.
文献关键词：
激光光学;激光直写;像散法;压电陶瓷;离焦量检测
中图分类号：
作者姓名：
郑金轮;魏劲松
作者机构：
中国科学院上海光学精密机械研究所微纳光电子功能材料实验室,上海201800;中国科学院大学材料科学与光电工程中心,北京100049
文献出处：
引用格式：
[1]郑金轮;魏劲松-.压电陶瓷锁焦性能对光刻曝光均匀性的影响)[J].光学学报,2022(19):99-110
A类：
像散法,离焦量检测
B类：
压电陶瓷,焦性,光刻,曝光,光均匀性,激光直写,执行器,动态响应特性,极坐标,简谐,非线性关系,关系量化,量化计算,转台,陶瓷生产,生产商,能力提高,激光光学
AB值：
0.243976
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