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典型文献
Ti-Zr-V吸气剂薄膜在管道的制备与真空性能研究
文献摘要:
利用直流磁控溅射方法在单晶硅片和内径为22 mm、长度分别为500 mm和1500 mm的银铜管道内壁镀制了Ti-Zr-V非蒸散型吸气剂薄膜,并对镀膜管道的极限真空进行了测量.结果显示:在180℃下激活24 h后,镀制了Ti-Zr-V薄膜真空管道的极限真空度可以达到9.2×10?10 Pa.在关闭测试系统和离子泵的阀门后,系统仅依靠Ti-Zr-V薄膜的吸气依然能够维持在9×10?9 Pa很长时间.利用测试粒子蒙特卡罗法对薄膜的抽速和容量进行了分析和测量,结果显示,Ti-Zr-V薄膜对CO的初始粘附系数最大可以达到0.3,容量可以达到1.2个分子层.
文献关键词:
Ti-Zr-V薄膜;极限真空;磁控溅射;非蒸散型吸气剂薄膜;抽速测量
作者姓名:
朱邦乐;范乐;洪远志;王思慧;尉伟;王一刚;方键威;王勇
作者机构:
中国科学技术大学 国家同步辐射实验室,合肥 230026
文献出处:
引用格式:
[1]朱邦乐;范乐;洪远志;王思慧;尉伟;王一刚;方键威;王勇-.Ti-Zr-V吸气剂薄膜在管道的制备与真空性能研究)[J].强激光与粒子束,2022(06):78-83
A类:
非蒸散型吸气剂薄膜,抽速测量
B类:
Ti,Zr,真空性能,直流磁控溅射,单晶硅片,铜管,内壁,镀膜,极限真空,真空管道,真空度,Pa,测试系统,离子泵,阀门,蒙特卡罗法,粘附
AB值:
0.237299
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