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MPCVD制备金刚石薄膜的工艺研究
文献摘要：
金刚石薄膜具有诸多优异的性能,在精密加工、半导体、散热器件、光电学等方面具有许多应用,不过现代制备金刚石薄膜的工艺依然存在沉积的速率慢、品质差等问题.简述金刚石薄膜的制备原理和制备机理,探究MPCVD制备金刚石薄膜的原理,通过近年来科研人员的研究成果来分析金刚石薄膜的制备工艺对其沉积速率和品质等方面产生的影响.其中,主要分析形核方式、CH4/H2比、Ar掺杂、沉积温度、沉积气压等工艺参数的差异对金刚石薄膜制备过程中活性基团的种类和浓度产生的影响.
文献关键词：
金刚石薄膜;MPCVD;制备工艺;沉积速率;品质
中图分类号：
作者姓名：
孙洪涛;林晶;赵丽丽;钱博
作者机构：
哈尔滨商业大学轻工学院,黑龙江哈尔滨 150028;东莞市德派精密机械有限公司,广东东莞 523000
文献出处：
引用格式：
[1]孙洪涛;林晶;赵丽丽;钱博-.MPCVD制备金刚石薄膜的工艺研究)[J].超硬材料工程,2022(01):26-31
A类：
B类：
MPCVD,金刚石薄膜,精密加工,散热器,电学,多应用,制备原理,制备机,科研人员,制备工艺,沉积速率,形核,CH4,H2,Ar,沉积温度,沉积气压,薄膜制备,制备过程,活性基团
AB值：
0.266068
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