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磁控溅射制备高熵氧化物薄膜的阻挡扩散性能
文献摘要：
利用磁控溅射在Ni-8at％W合金基体表面沉积(CoCrNiTa)Ox高熵氧化物薄膜,研究了它在1000°C、100 h的真空扩散条件下的高温稳定性及其阻挡Ni-30at％Cr涂层与Ni-8at％W合金基体中元素互扩散的性能,采用X射线衍射仪、扫描电子显微镜、能谱仪、纳米压痕仪及划痕仪对薄膜进行研究.结果表明:(CoCrNiTa)Ox高熵氧化物薄膜较为致密,为非晶结构.随着溅射时间延长,薄膜纳米硬度上升的趋势很小,但膜基结合力增幅较大.(CoCrNiTa)Ox扩散障具有较好的高温稳定性,对Cr元素具有较好的扩散阻挡性能.
文献关键词：
磁控溅射;高熵氧化物;铬;扩散障;膜基结合力
中图分类号：
作者姓名：
秦海宁;张伟强;柳泉;周新雨;杨尔其
作者机构：
沈阳理工大学材料科学与工程学院,辽宁 沈阳 110159
文献出处：
引用格式：
[1]秦海宁;张伟强;柳泉;周新雨;杨尔其-.磁控溅射制备高熵氧化物薄膜的阻挡扩散性能)[J].电镀与涂饰,2022(09):641-646
A类：
CoCrNiTa,30at
B类：
磁控溅射,高熵氧化物,扩散性能,8at,Ox,真空扩散,扩散条件,高温稳定性,中元,互扩散,能谱仪,纳米压痕,压痕仪,划痕,非晶,溅射时间,纳米硬度,膜基结合力,扩散障,扩散阻挡性能
AB值：
0.283261
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