典型文献
U-型设计的对称化L2-偏差的下界
文献摘要：
均匀设计是部分因子设计的主要方法之一,已被广泛地应用于工业生产、系统工程、制药及其他自然科学中.各种偏差被用来度量部分因子设计的均匀性,其关键的问题是寻找一个精确的偏差下界,因为它可以作为衡量设计均匀性的标准.该文给出了 4水平对称U-型设计的对称化L2-偏差的下界,以及2、3混水平和2、4混水平非对称U-型设计的对称化L2-偏差的下界.
文献关键词：
U-型设计;对称化L2-偏差;下界
中图分类号：
作者姓名：
雷轶菊;欧祖军
作者机构：
新乡学院数学与统计学院 河南新乡453003;吉首大学数学与统计学院 湖南吉首416000
文献出处：
引用格式：
[1]雷轶菊;欧祖军-.U-型设计的对称化L2-偏差的下界)[J].数学物理学报,2022(06):1802-1811
A类：
B类：
L2,下界,均匀设计,因子设计,主要方法,制药,自然科学,差下,混水
AB值：
0.309901
相似文献
机标中图分类号，由域田数据科技根据网络公开资料自动分析生成，仅供学习研究参考。
