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355nm全固态紫外激光刻蚀碳化硅影响因子分析
文献摘要：
使用355 nm全固态紫外(UV)激光对碳化硅材料进行直写刻蚀,实验过程采取单一变量的原则4种影响因子对刻蚀结果产生的影响.结果表明:能量密度过大或过小都会增加刻蚀通道崩边尺寸,刻蚀深度随能量密度增大而增大;重复频率的增大会加重崩边现象,同时会导致刻蚀深度的减小;扫描速度越大刻蚀通道的崩边尺寸越大,刻蚀深度越小;扫描次数的增加在增大刻蚀深度的同时会使通道侧壁形成一定的锥度.通过对实验数据的对比分析最终得出激光刻蚀碳化硅的最优参数,对今后进行激光加工碳化硅材料的参数选取具有一定参考价值.
文献关键词：
激光刻蚀;碳化硅;单一变量法;微通道
中图分类号：
作者姓名：
雷程;张成印;梁庭;李奇思;王文涛
作者机构：
中北大学仪器科学与动态测试教育部重点实验室,山西太原030051;动态测试技术山西省重点实验室,山西太原030051
文献出处：
引用格式：
[1]雷程;张成印;梁庭;李奇思;王文涛-.355nm全固态紫外激光刻蚀碳化硅影响因子分析)[J].传感器与微系统,2022(10):22-25
A类：
B类：
355nm,全固态,紫外激光,激光刻蚀,影响因子分析,UV,碳化硅材料,直写,能量密度,刻蚀深度,重复频率,扫描速度,扫描次数,加在,侧壁,锥度,最优参数,激光加工,参数选取,单一变量法,微通道
AB值：
0.298543
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