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激光刻蚀对Ag/FTO/AZO薄膜光学和电学性能的影响
文献摘要：
采用不同能量密度的激光对制备的Ag/FTO/AZO多层薄膜进行光栅结构刻蚀,分析激光刻蚀后薄膜的表面形貌、光学性能和电学性能的变化,并确定薄膜获得最佳性能时的激光能量密度.结果 表明,以一定的激光能量密度对薄膜进行光栅结构刻蚀处理,不仅能有效提高薄膜的抗反射能力,还能产生附加退火作用,促使薄膜晶粒生长,减少晶界面积,从而减少晶界的光子和载流子的散射损失,提高载流子的迁移率,最终提高薄膜的透过率,优化薄膜的导电性能,实现薄膜的光学性能和电学性能的优化.
文献关键词：
激光加工;Ag/FTO/AZO薄膜;光栅结构;光学性能;电学性能
中图分类号：
作者姓名：
周运龙;雷敏;王陈林;许倩;李保家;黄立静
作者机构：
江苏大学材料科学与工程学院,江苏镇江212013;江苏大学微纳光电子与太赫兹技术研究院,江苏镇江212013;江苏大学机械工程学院,江苏镇江212013
文献出处：
引用格式：
[1]周运龙;雷敏;王陈林;许倩;李保家;黄立静-.激光刻蚀对Ag/FTO/AZO薄膜光学和电学性能的影响)[J].中国激光,2022(02):66-74
A类：
B类：
激光刻蚀,Ag,FTO,AZO,薄膜光学,电学性能,多层薄膜,光栅结构,表面形貌,光学性能,获得最佳,激光能量密度,抗反射,反射能,退火,晶粒生长,晶界,光子,高载流,载流子的迁移率,透过率,导电性能,激光加工
AB值：
0.318965
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