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原子层沉积超薄氮化铝薄膜的椭圆偏振光谱法表征
文献摘要：
采用原子层沉积(ALD)工艺在硅衬底上生长了35 nm以下不同厚度的超薄氮化铝(AlN)晶态薄膜.利用椭圆偏振光谱法在波长275～900 nm内测量并拟合薄膜的厚度及折射率和消光系数等光学参数.利用原子力显微镜(AFM)表征AlN晶粒尺寸随生长循环次数的变化,计算得到薄膜表面粗糙度并用于辅助椭偏模型拟合.针对ALD工艺特点建立合适的椭偏模型,可获得AlN超薄膜的生长速率为0.0535 nm/cycle,AlN超薄膜的折射率随着生长循环次数的增加而增大,并逐渐趋于稳定,薄膜厚度为6.88 nm时,其折射率为1.6535,薄膜厚度为33.01 nm时,其折射率为1.8731.该模型为超薄介质薄膜提供了稳定、可靠的椭圆偏振光谱法表征.
文献关键词：
椭圆偏振光谱法;折射率;超薄膜;氮化铝(AlN);原子层沉积(ALD)
中图分类号：
作者姓名：
瞿敏妮;乌李瑛;董学谦;沈贇靓;田苗;王英;程秀兰
作者机构：
上海交通大学电子信息与电气工程学院先进电子材料与器件平台,上海200240;瑟米莱伯中国公司,上海201210
文献出处：
引用格式：
[1]瞿敏妮;乌李瑛;董学谦;沈贇靓;田苗;王英;程秀兰-.原子层沉积超薄氮化铝薄膜的椭圆偏振光谱法表征)[J].微纳电子技术,2022(02):169-174
A类：
氮化铝薄膜,椭圆偏振光谱,椭圆偏振光谱法
B类：
原子层沉积,ALD,硅衬底,上生,AlN,晶态薄膜,内测,折射率,消光系数,光学参数,原子力显微镜,AFM,晶粒尺寸,长循环,循环次数,表面粗糙度,模型拟合,工艺特点,超薄膜,生长速率,cycle,薄膜厚度,薄介质
AB值：
0.177946
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