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薄膜光学常数的原位测定
文献摘要：
薄膜的光学常数(折射率和消光系数)精度直接影响设计和制造的光学器件的性能.大多数光学常数的测定方法较为复杂,不能直接应用在镀膜过程中.提出了一种薄膜光学常数原位实时测量的方法,通过监测沉积材料的透射率可以快速准确地测量光学常数.测量了高吸收材料Si、低吸收材料Ta2O5和超低吸收材料SiO2的近红外光学常数,用这种方法测得光学常数分别为n=3.22,k=4.6×10-3,n=2.06,k=1.3×10-3和n=1.46,k=6.6×10-5.该方法适用于强吸收材料和弱吸收材料光学常数的测定,为在线精确测量薄膜的光学常数提供了一种有效的方法,对设计和制造高质量的光学器件具有重要意义.
文献关键词：
光学常数;近红外;薄膜;原位;测定
中图分类号：
作者姓名：
谢茂彬;吴智勇;崔恒毅;赵新潮;玄志一;刘清权;刘锋;孙聊新;王少伟
作者机构：
中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室,上海200083;上海节能镀膜玻璃工程技术研究中心,上海200083;上海量子科学研究中心,上海201315;中国科学院大学,北京100049;上海师范大学物理系,上海200234;上海科技大学物质科学与技术学院,上海201210;南通智能传感研究院,江苏南通226000
文献出处：
引用格式：
[1]谢茂彬;吴智勇;崔恒毅;赵新潮;玄志一;刘清权;刘锋;孙聊新;王少伟-.薄膜光学常数的原位测定)[J].红外与毫米波学报,2022(05):888-893
A类：
B类：
薄膜光学,光学常数,原位测定,折射率,消光系数,光学器件,测定方法,接应,镀膜,实时测量,透射率,快速准确,低吸收,Ta2O5,SiO2,近红外光,红外光学,精确测量
AB值：
0.294953
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