典型文献
Ni80Cr20薄膜的光谱中性度优化
文献摘要：
金属材料薄膜的光学常数会随膜层厚度发生变化,从而导致薄膜的光谱特性也发生变化.在制备工艺中,不论是热蒸发工艺还是溅射工艺,Ni80Cr20(简称镍铬)薄膜在较"薄"和较"厚"的时候光谱中性度都较差,并且其光谱特性趋势相反.理论计算结果表明,增加镍铬合金中Cr(铬)的比份可以提高"薄"膜的中性度,而"厚"膜则需要提高Ni(镍)的比份.针对光谱特性相反的"薄"膜和"厚"膜,分别提出了"有意分馏"和增加镍的比例的方法来改善光谱的中性度.试验结果表明:为改善膜层的中性度,低密度时可采用"有意分馏"的热蒸发工艺来提高膜层中铬的含量;而高密度时则可以镀制纯镍."有意分馏"的热蒸发工艺可将光谱中性度提升至1.8％;纯镍工艺可将OD4的光谱中性度提升至4.6％.所提出的改进的镀膜工艺是有效的,并为光谱检测、光纤通讯、摄影摄像等应用领域的衰减片制备工艺的改进提供了参考.
文献关键词：
中性密度滤光片;中性度;镍铬合金;热蒸发;分馏;溅射
中图分类号：
作者姓名：
金秀;张勇喜;刘佩闻;张鹤;王忠连;班超
作者机构：
沈阳仪表科学研究院有限公司,辽宁 沈阳 110043
文献出处：
引用格式：
[1]金秀;张勇喜;刘佩闻;张鹤;王忠连;班超-.Ni80Cr20薄膜的光谱中性度优化)[J].光学仪器,2022(03):56-61
A类：
Ni80Cr20,中性度,候光,OD4,中性密度滤光片
B类：
金属材料,光学常数,膜层厚度,光谱特性,制备工艺,不论是,热蒸发,蒸发工艺,溅射,射工,镍铬合金,分馏,纯镍,镀膜工艺,光谱检测,光纤通讯,摄影摄像
AB值：
0.198589
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