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氧化物靶材的制备及研究进展
文献摘要：
氧化物靶材是一种关键性镀膜基材,主要用于磁控溅射制备TFT薄膜,并将其应用于晶体管等器件中透明电极、半导体沟道层,同时也广泛应用于显示面板领域.为满足高性能器件对薄膜的要求,氧化物靶材逐渐向高致密、大尺寸、异形化方向发展.以显示行业中氧化物靶材作为重点,介绍了氧化物靶材制备流程,主要从素坯成型、烧结工艺两个角度对氧化物靶材进行总结,分析了烧结工艺对靶材参数与溅射薄膜电阻率、光学透射率及粗糙度等方面的影响,最后阐述了国内外氧化物靶材市场的现状及发展趋势.
文献关键词：
氧化物;溅射靶材;成型;烧结;薄膜
中图分类号：
作者姓名：
付钰斌;宁洪龙;邹文昕;吴振宇;张康平;郭晨潇;刘丁荣;侯明玥;姚日晖;彭俊彪
作者机构：
华南理工大学发光材料与器件国家重点实验室,高分子光电材料与器件研究所,广东 广州 510641
文献出处：
引用格式：
[1]付钰斌;宁洪龙;邹文昕;吴振宇;张康平;郭晨潇;刘丁荣;侯明玥;姚日晖;彭俊彪-.氧化物靶材的制备及研究进展)[J].材料研究与应用,2022(03):362-368
A类：
B类：
镀膜,基材,磁控溅射,TFT,晶体管,透明电极,沟道,显示面板,高致,大尺寸,异形,素坯,烧结工艺,对靶,溅射薄膜,薄膜电阻,电阻率,光学透射,透射率,粗糙度,外氧化,溅射靶材
AB值：
0.396606
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