典型文献
HiPIMS制备TiB2、TiBN涂层及其等离子体性质
文献摘要：
高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)沉积制备TiBx时,涂层化学计量比x随HiPIMS脉冲宽度的减小而降低.采用原位等离子体质谱仪研究TiBx涂层的沉积等离子体性质,采用弹性反冲探测分析技术测量涂层元素组成,采用X射线衍射分析涂层相结构,采用X射线光电子能谱研究涂层键价结构,通过纳米压痕仪测试涂层力学性能.结果表明,减小HiPIMS脉冲宽度后出现气体稀释效应,加之Ti的一次离化能低于B,即Ti优先B发生离化,导致Ti+/B+离子束流比增大,从而降低TiBx涂层化学计量比x,揭示了TiBx涂层化学计量比演变机制.此外,在短HiPIMS脉冲宽度溅射TiB2靶材条件下,引入N2气体,当N2流量为10 mL/min、HiPIMS脉冲宽度为30μs时,成功制备出具有纳米晶TiN、TiB2复合结构特征的新型TiBN涂层,此TiBN涂层硬度及弹性模量分别为37.5 GPa、300 GPa,为具有优异力学性能纳米复合涂层的设计制备提供实验和理论指导.
文献关键词：
HiPIMS;TiBN;纳米复合;等离子体;离化能
中图分类号：
作者姓名：
吴正涛;叶榕礼;李海庆;王启民
作者机构：
广东工业大学机电工程学院 广州 510006;安徽工业大学先进金属材料绿色制备与表面技术教育部重点实验室 马鞍山 243000
文献出处：
引用格式：
[1]吴正涛;叶榕礼;李海庆;王启民-.HiPIMS制备TiB2、TiBN涂层及其等离子体性质)[J].中国表面工程,2022(05):228-235
A类：
TiBN,TiBx,离化能
B类：
HiPIMS,TiB2,高功率脉冲磁控溅射,层化,化学计量比,脉冲宽度,等离子体质谱,质谱仪,反冲,元素组成,衍射分析,相结构,光电子能谱,纳米压痕,压痕仪,稀释效应,生离,Ti+,B+,离子束,束流,演变机制,靶材,N2,纳米晶,TiN,复合结构,涂层硬度,弹性模量,GPa,纳米复合涂层,设计制备
AB值：
0.260669
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