典型文献
退火处理对磁控溅射MoOx薄膜性质的调控
文献摘要：
采用射频磁控溅射的方法制备了MoOx薄膜,并对MoOx薄膜进行不同气氛和时间的退火处理.退火使MoOx薄膜的氧空位增加,并改变了MoOx薄膜的晶相、电阻率和表面形貌.测试结果表明:未退火MoOx薄膜的表面不存在明显晶粒,且只包含1个单斜相衍射峰和较少的氧空位,这导致未退火MoOx薄膜的电阻率最高.当氮气做退火气氛时,MoOx薄膜表面存在均匀分布且生长取向相同的微粒,单斜相衍射峰数目更多,电阻率最低;在氮氢混合气中退火的MoOx薄膜表面存在团簇,且电阻率约为氮气退火MoOx薄膜的2倍.此外,当分别用氮气和氮氢混合气退火时,MoOx薄膜均呈现出随退火时间延长,氧空位含量增加,电阻率进一步降低的趋势.
文献关键词：
MoOx薄膜;退火气氛;退火时间;氧空位;电阻率
中图分类号：
作者姓名：
石雨铭;王莹琳;李雅楠;林剑飞;朱匡宇;张昕彤
作者机构：
东北师范大学 物理学院,吉林 长春 130024;东北师范大学 物理学国家级实验教学示范中心(东北师范大学),吉林 长春 130024
文献出处：
引用格式：
[1]石雨铭;王莹琳;李雅楠;林剑飞;朱匡宇;张昕彤-.退火处理对磁控溅射MoOx薄膜性质的调控)[J].物理实验,2022(08):48-53
A类：
B类：
退火处理,MoOx,膜性,射频磁控溅射,不同气氛,氧空位,晶相,电阻率,表面形貌,未退,显晶,晶粒,单斜,氮气,退火气氛,均匀分布,生长取向,微粒,氮氢混合气,团簇,退火时间
AB值：
0.239888
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