典型文献
面向半导体湿法制程的超洁净流控技术综述
文献摘要：
湿法工艺作为半导体工艺的重要组成部分,通过化学品(酸、碱、溶剂等)与超纯水等液体介质,对晶圆表面进行刻蚀、清洗等处理,其制程需避免颗粒、金属、离子、细菌等污染物带来的工艺缺陷.为此,湿法工艺相关的化学品系统、超纯水系统与制程装备均需采用超洁净流控部件,但相关产品被国外垄断,我国对该技术领域的研究仍处起步阶段.该研究首先阐述了半导体湿法制程对超洁净流控部件的需求,剖析了该类部件的主要技术特征.进而,重点介绍了磁悬浮泵、波纹管泵、隔膜阀以及超声波流量传感器等超洁净流控部件的工作原理与发展历程,并分析了其关键技术与研究现状.最后,对超洁净流控技术的发展做出了展望.
文献关键词：
半导体;湿法制程;超洁净流控;磁悬浮泵;波纹管泵;隔膜阀;超声波流量传感器
中图分类号：
作者姓名：
杨津宇;杨军;白晓蓉;任政钢;刘成卫;龚轩;胡亮;阮晓东
作者机构：
浙江大学流体动力与机电系统国家重点实验室,浙江杭州 310027;浙江启尔机电技术有限公司,浙江杭州 311305
文献出处：
引用格式：
[1]杨津宇;杨军;白晓蓉;任政钢;刘成卫;龚轩;胡亮;阮晓东-.面向半导体湿法制程的超洁净流控技术综述)[J].液压与气动,2022(05):1-17
A类：
湿法制程,超洁净流控,磁悬浮泵,波纹管泵,超声波流量传感器
B类：
流控技术,技术综述,湿法工艺,半导体工艺,化学品,超纯水,液体介质,晶圆,刻蚀,工艺缺陷,品系,纯水系统,技术领域的研究,主要技术,技术特征,隔膜阀
AB值：
0.161224
相似文献
机标中图分类号，由域田数据科技根据网络公开资料自动分析生成，仅供学习研究参考。
