典型文献
磁流变抛光表面粗糙度建模与仿真
文献摘要：
为研究磁流变抛光表面粗糙度与工艺参数之间的关系,本文建立数学模型并进行了求解验证.通过分析磁流变抛光技术的原理以及磁流变抛光过程中的材料去除机理,结合Preston方程建立磁流变抛光力学模型.分析工件表面受到的正压力,依据磁流变抛光机理对氧化锆陶瓷工件理论模型的流体动压力和磁场产生的磁化压力进行求解分析,具体化磁流变抛光的力学模型,解得正压力.对磁流变抛光的表面粗糙度进行建模,依据单颗磨料的材料去除作用模型建立磁流变抛光的表面粗糙度数学模型,分析抛光过程中影响表面粗糙度的具体因素,并通过MATLAB软件对方程进行仿真求解,得到磁场强度和磨料粒径对表面粗糙度的影响规律.结果表明,表面粗糙度和工件的压入深度存在一阶线性关系;当磨料粒径固定不变时,表面粗糙度随着磁场强度的增大而增大;当磁场强度固定不变时,表面粗糙度值与磨料粒径之间呈现正比关系.通过实验证明了模型和仿真结果的准确性,仿真分析得到的磁场强度与磨料粒径的关系,磁场强度与表面粗糙度之间的关系与实验一致,确定的磁场强度合理范围为0.4T左右,磨料粒径在2.5μm左右.
文献关键词：
磁流变抛光;表面粗糙度;数学模型;工艺参数;去除机理
中图分类号：
作者姓名：
肖强;王嘉琪;靳龙平
作者机构：
西安工业大学机电工程学院;西北工业集团有限公司
文献出处：
引用格式：
[1]肖强;王嘉琪;靳龙平-.磁流变抛光表面粗糙度建模与仿真)[J].工具技术,2022(04):52-59
A类：
粗糙度建模
B类：
磁流变抛光,光表,建模与仿真,抛光技术,光过,材料去除机理,Preston,光力学,工件表面,正压力,抛光机理,氧化锆陶瓷,陶瓷工,流体动压,动压力,磁化,具体化,磨料,去除作用,中影,磁场强度,压入深度,表面粗糙度值,模型和仿真,合理范围,4T
AB值：
0.177578
相似文献
机标中图分类号，由域田数据科技根据网络公开资料自动分析生成，仅供学习研究参考。
