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基于皮米梳的皮米测量技术
文献摘要：
介绍一种基于皮米梳的皮米测量技术.在实验中,通过采用两次曝光全息技术制出皮米梳,其两次曝光的干涉场周期具有200pm的差值.当激光照射到皮米梳上,将产生随着传播方向不变的干涉条纹.该干涉条纹的周期与皮米梳的周期差值成反比,由此建立了一种新型皮米尺度位移或变化的测量原理和方法.以皮米梳及其应用为基础,将会发展出一系列新的皮米光学元件、技术及装置.
文献关键词：
测量;皮米光学;皮米测量;皮米光学元件;皮米梳
中图分类号：
作者姓名：
周常河;金戈
作者机构：
暨南大学光子技术研究院,广东广州511443
文献出处：
引用格式：
[1]周常河;金戈-.基于皮米梳的皮米测量技术)[J].光学学报,2022(17):189-194
A类：
皮米梳,皮米测量,两次曝光,200pm,皮米光学,皮米光学元件
B类：
测量技术,全息技术,光的干涉,干涉场,激光照射,照射到,传播方向,干涉条纹,成反比,米尺,测量原理
AB值：
0.180177
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