典型文献
α籽晶促进低温反应溅射沉积α-Al2O3薄膜
文献摘要：
分别使用反应溅射Al+α-Al2O3(15％ α-Al2O3,质量分数)复合靶和在金箔基体表面预植α-Al2O3籽晶,促进α-Al2O3薄膜的低温沉积.使用扫描电子显微镜(SEM)、掠入射X射线衍射(GIXRD)和能谱仪(EDS)等方法表征薄膜样品的表面形貌、相结构和元素组成.结果 表明,在射频反应溅射Al+α-Al2O3复合靶、沉积温度为560℃条件下能在Si(100)基体上沉积出化学计量比的单相α-Al2O3薄膜;使用射频反应溅射A1靶、沉积温度为500℃条件下能在预植α-Al2O3籽晶(籽晶密度为106/cm2)的金箔表面沉积出化学计量比的单相α-Al2O3薄膜.两种研究方案的结果均表明,α-Al2O3籽晶能促进低温沉积单相α-Al2O3薄膜.
文献关键词：
材料表面与界面;a-Al2O3薄膜;反应溅射;α籽晶;低温沉积
中图分类号：
作者姓名：
李修贤;邱万奇;焦东玲;钟喜春;刘仲武
作者机构：
华南理工大学材料科学与工程学院 广州510640
文献出处：
引用格式：
[1]李修贤;邱万奇;焦东玲;钟喜春;刘仲武-.α籽晶促进低温反应溅射沉积α-Al2O3薄膜)[J].材料研究学报,2022(01):8-12
A类：
B类：
籽晶,反应溅射,溅射沉积,Al2O3,Al+,复合靶,金箔,低温沉积,掠入射,GIXRD,能谱仪,EDS,表面形貌,相结构,元素组成,沉积温度,Si,化学计量比,单相,A1,研究方案,材料表面与界面
AB值：
0.284702
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