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高分布密度熔滴对ta-C薄膜力学性能的影响
文献摘要：
为研究高分布密度熔滴对ta-C薄膜力学性能和基体温度对熔滴分布密度的影响,分别用直接阴极电弧(DCVA)和磁过滤阴极电弧(FCVA)方法在不同基体温度下制备具有不同熔滴分布密度的ta-C薄膜.用扫描电子显微镜、3D光学轮廓仪、拉曼光谱仪、X射线光电子能谱、纳米压痕仪和球盘式摩擦磨损仪分别表征ta-C薄膜表面形貌、粗糙度、组织结构、纳米硬度和摩擦磨损性能.不加热基体时DCVA和FCVA制备的薄膜sp3C含量相近.结果表明:高分布密度熔滴降低薄膜摩擦系数、磨损率和硬度.基体温度升高对DCVA制备薄膜的熔滴分布密度无明显影响,但可使其摩擦系数降低,且磨损率仍低于FCVA制备薄膜的磨损率.
文献关键词：
ta-C薄膜;真空阴极电弧沉积;熔滴;基体温度;力学性能
中图分类号：
作者姓名：
廖嘉诚;彭继华
作者机构：
华南理工大学材料科学与工程学院,广东 广州510000
文献出处：
引用格式：
[1]廖嘉诚;彭继华-.高分布密度熔滴对ta-C薄膜力学性能的影响)[J].热加工工艺,2022(24):78-82,86
A类：
DCVA,真空阴极电弧沉积
B类：
分布密度,熔滴,ta,膜力,基体温度,FCVA,不同基体,轮廓仪,拉曼光谱,光谱仪,光电子能谱,纳米压痕,压痕仪,球盘,盘式,表面形貌,粗糙度,纳米硬度,摩擦磨损性能,不加,sp3C,摩擦系数,磨损率
AB值：
0.22715
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