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激光外差干涉技术在光刻机中的应用
文献摘要：
超精密位移测量系统是光刻机不可或缺的关键分系统之一,而基于激光外差干涉技术的超精密位移测量系统同时具备亚纳米级分辨率、纳米级精度、米级量程和数米每秒的测量速度等优点,是目前唯一能满足光刻机要求的位移测量系统.目前应用于光刻机的超精密位移测量系统主要有双频激光干涉仪和平面光栅测量系统两种,二者均以激光外差干涉技术为基础.本文将分别对这两种测量系统的原理、优缺点以及在光刻机中的典型应用进行阐述.
文献关键词：
光刻机;外差干涉;双频激光干涉仪;平面光栅
中图分类号：
作者姓名：
张志平;杨晓峰
作者机构：
复旦大学工程与应用技术研究院上海市超精密运动控制与检测工程研究中心,上海201203
文献出处：
引用格式：
[1]张志平;杨晓峰-.激光外差干涉技术在光刻机中的应用)[J].激光与光电子学进展,2022(09):287-294
A类：
B类：
激光外差干涉,干涉技术,光刻机,超精密,位移测量系统,关键分,分系统,亚纳,纳米级,量程,数米,每秒,机要,双频激光干涉仪,平面光栅,典型应用
AB值：
0.181631
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