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FCVAD技术制备CrCN薄膜的热稳定性研究
文献摘要：
磁过滤真空阴极弧沉积(FCVAD)技术制备的CrCN薄膜具有优异的机械性能,可作为表面改性膜应用于纺织器材、pcb钻头和活塞环中.本文针对薄膜因摩擦产生高温或应用环境温度高,其结构和性能将发生变化的情况,研究了 CrCN薄膜的热稳定性.通过X射线衍射(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FESEM)、拉曼光谱(Raman)和X射线光电子能谱(XPS)对常温至800℃下薄膜的结构进行了表征.结果显示:FCVAD技术制备的CrCN薄膜热稳定上限温度约为400℃.温度在400℃以下时,CrCN薄膜结构稳定,保持无序状态;当温度达到500℃时,薄膜表面出现细小晶粒,薄膜中的CrN相转化为Cr2N相;随着温度继续升高,CrCN固溶相开始石墨化,薄膜内晶粒尺寸变大;当温度大于700℃时,薄膜中的碳以CO或CO2的形式脱离薄膜,Cr元素以Cr2O3相的形式存在,并在800℃长成尺寸约400nm的晶粒.
文献关键词：
FCVAD技术;CrCN薄膜;热稳定性
中图分类号：
作者姓名：
吴帅;刘爽;覃礼钊;张旭;张同华;廖斌;王可平
作者机构：
西南大学材料与能源学院,重庆 400715;北京师范大学 射线束技术与材料改性教育部重点实验室,北京 100875;金猫纺织器材有限公司,重庆 400715
文献出处：
引用格式：
[1]吴帅;刘爽;覃礼钊;张旭;张同华;廖斌;王可平-.FCVAD技术制备CrCN薄膜的热稳定性研究)[J].真空,2022(05):14-19
A类：
FCVAD,CrCN,pcb
B类：
热稳定性,稳定性研究,磁过滤真空阴极弧,机械性能,表面改性,改性膜,膜应用,纺织器材,钻头,活塞环,环中,应用环境,温度高,结构和性能,场发射扫描电子显微镜,FESEM,拉曼光谱,Raman,光电子能谱,XPS,薄膜结构,结构稳定,细小晶粒,CrN,相转化,Cr2N,固溶,石墨化,晶粒尺寸,Cr2O3,长成,400nm
AB值：
0.327432
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