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材料形貌对碲镉汞红外焦平面器件性能的影响
文献摘要：
碲镉汞材料表面的粗糙度对钝化膜层的质量、接触孔的光刻与刻蚀都有着显著的影响,研究其表面的粗糙度对器件性能的影响具有重要意义.在本文中,我们分别研究了碲镉汞的小平面形貌和台阶形貌对器件性能的影响,以及不同表面粗糙度的碲镉汞材料对器件制备工艺和最终性能的影响.研究表明,随着材料表面粗糙度的增加,钝化层的质量下降,接触孔的均匀性下降,且接触孔的形貌变差,I-V性能下降,最终导致器件的响应非均匀性增加,盲元数增加.
文献关键词：
碲镉汞;生长台阶;粗糙度;盲元率;零偏阻抗;响应非均匀性
中图分类号：
作者姓名：
陈书真;祁娇娇;王丹;程杰;高华;何斌
作者机构：
华北光电技术研究所,北京 100015
文献出处：
引用格式：
[1]陈书真;祁娇娇;王丹;程杰;高华;何斌-.材料形貌对碲镉汞红外焦平面器件性能的影响)[J].红外技术,2022(10):1033-1040
A类：
生长台阶,零偏阻抗
B类：
料形,碲镉汞,红外焦平面器件,器件性能,钝化膜,膜层,接触孔,光刻,刻蚀,小平面,表面粗糙度,器件制备工艺,钝化层,性能下降,响应非均匀性,盲元率
AB值：
0.266998
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