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前驱体通气时间对原子层沉积氧化锌薄膜的影响
文献摘要：
建立了反应腔室模型,模拟分析了原子层沉积(ALD)过程中前驱体质量分数随其通气时间的变化趋势.采用ALD法制备了ZnO薄膜,采用原子力显微镜(AFM)与扫描电子显微镜(SEM)对薄膜进行了表征,研究了不同二乙基锌通气时间下ZnO薄膜的表面形貌和厚度均匀性.模拟结果表明,前驱体通气时间越长,前驱体在整个反应腔室内的分布越均匀.在通气时间为300 ms时,二乙基锌可以均匀地分布在反应腔室内.实验以及测试结果表明,沉积温度为200℃时,随着二乙基锌通气时间的增加,薄膜的粗糙度呈现下降的趋势.在二乙基锌通气时间为300 ms时,样品粗糙度为3.52 nm.此外,随前驱体通气时间的增加,薄膜厚度也会有所增加,生长的薄膜也更加致密、均匀.
文献关键词：
原子层沉积(ALD);流体分析;ZnO薄膜;表面粗糙度;薄膜均匀性
中图分类号：
作者姓名：
马铭辰;王国政;王蓟
作者机构：
长春理工大学物理学院,长春 130022
文献出处：
引用格式：
[1]马铭辰;王国政;王蓟-.前驱体通气时间对原子层沉积氧化锌薄膜的影响)[J].微纳电子技术,2022(03):231-235,241
A类：
B类：
前驱体,通气时间,原子层沉积,氧化锌薄膜,腔室,ALD,ZnO,原子力显微镜,AFM,乙基,表面形貌,厚度均匀性,ms,沉积温度,薄膜厚度,流体分析,表面粗糙度,薄膜均匀性
AB值：
0.240625
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