典型文献
氧化镍电致变色薄膜及其器件的制备与性能研究
文献摘要：
以氧化铟锡(ITO)玻璃为基底,采用直流反应磁控溅射法在室温环境下制备了高透过率调制的NiOx薄膜,利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子电镜(SEM)、紫外可见分光光度计(UV 3600)对薄膜进行分析和表征,研究溅射过程中氩氧比、气压、功率对薄膜结构、形貌及电致变色性能的影响.结果表明:制备的NiOx薄膜表面有明显的结晶颗粒及孔隙,并沿(200)晶面择优生长;随着气压、功率、氧分压的增大,透过率调制先增大后减小,在时间为45 min、溅射气压4.9 Pa、氩氧比113 ∶7、功率215 W时最高可达58.3％,着褪色响应时间分别为9和19 s,相应的着褪色效率分别为77.56和40.39 cm2/C;以最优工艺的NiOx薄膜组装了结构为Glass/ITO/NiOx/Li-electrolyte/WO3/ITO/Glass的电致变色器件,器件在550 nm处的光调制幅度为46.5％,着褪色时间分别为27和45 s,相应的着褪色速率为1.5和0.9％/s,在循环500次后透过率调制保持在40％以上.
文献关键词：
磁控溅射;NiOx薄膜;电致变色器件;高调制幅度
中图分类号：
作者姓名：
罗自良;王顺花;毛佳伟;朱鸣飞;刁训刚
作者机构：
兰州交通大学材料科学与工程学院,兰州 730070;纳能镀膜丹阳有限公司,丹阳 212300;北京航空航天大学能源与动力工程学院,北京 100191
文献出处：
引用格式：
[1]罗自良;王顺花;毛佳伟;朱鸣飞;刁训刚-.氧化镍电致变色薄膜及其器件的制备与性能研究)[J].宇航材料工艺,2022(05):66-73
A类：
高调制幅度
B类：
氧化镍,电致变色薄膜,制备与性能,氧化铟锡,ITO,反应磁控溅射,磁控溅射法,透过率,NiOx,紫外可见分光光度计,UV,分析和表征,氩氧比,薄膜结构,电致变色性能,晶面,择优,优生,氧分压,溅射气压,Pa,褪色,响应时间,薄膜组装,Glass,Li,electrolyte,WO3,电致变色器件,光调制
AB值：
0.334264
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