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电弧离子镀弧源的研制进展
文献摘要：
电弧离子镀作为一种经典的PVD技术已经在涂层领域得到了长足的发展,但沉积过程中产生的宏观大颗粒问题限制了其在纳米功能涂层中的应用.弧源作为电弧离子镀膜设备的核心部件,是宏观大颗粒产生的源头,直接决定镀膜系统的成膜质量.阐述了三类不同靶材形式传统弧源的特点,分析总结了近年来新型弧源研究和应用现状,综述了新型弧源在控弧磁场、水冷系统、辅助构件与引弧装置方面的创新,展望了未来弧源的设计发展趋势.
文献关键词：
电弧离子镀;弧源;宏观大颗粒
中图分类号：
作者姓名：
王树正;鄢强;杜鸣皓;宋慧瑾
作者机构：
成都大学机械工程学院,成都 610106;四川宇戕科技有限公司,四川 绵竹 618200
文献出处：
引用格式：
[1]王树正;鄢强;杜鸣皓;宋慧瑾-.电弧离子镀弧源的研制进展)[J].真空与低温,2022(02):180-186
A类：
宏观大颗粒
B类：
电弧离子镀,弧源,PVD,沉积过程,功能涂层,镀膜,核心部件,膜系统,成膜,靶材,研究和应用,水冷系统,引弧,设计发展
AB值：
0.247949
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