典型文献
沉积时间对旋转喷涂法制备的NiZn铁氧体薄膜的影响
文献摘要：
采用旋转喷涂法低温沉积制备NiZn铁氧体薄膜,研究了沉积时间对薄膜相结构、显微形貌和磁性能的影响.结果表明,随着沉积时间延长,平均晶粒尺寸逐渐增大,(222)方向择优取向先增强后减弱,沉积速率先减小后稳定,随着薄膜厚度逐渐增大,晶粒的柱状结构也越发明显,结晶性能提高.NiZn铁氧体薄膜的饱和磁化强度Ms增高,矫顽力Hc降低,100 MHz的磁导率μ′增大,截止频率fr从0.32 GHz降低至0.23 GHz.但是无论沉积时间长短,各薄膜均存在磁损耗角正切(μ"/μ′)过高的问题.
文献关键词：
NiZn铁氧体薄膜;旋转喷涂法;低温沉积;沉积时间;磁性能
中图分类号：
作者姓名：
王宏;杨仕机;冉茂君;青豪;余忠;孙科;兰中文
作者机构：
江西尚朋电子科技有限公司,江西宜春336202;电子科技大学材料与能源学院,四川成都610054
文献出处：
引用格式：
[1]王宏;杨仕机;冉茂君;青豪;余忠;孙科;兰中文-.沉积时间对旋转喷涂法制备的NiZn铁氧体薄膜的影响)[J].磁性材料及器件,2022(01):1-6
A类：
旋转喷涂法,铁氧体薄膜,磁损耗角
B类：
沉积时间,NiZn,低温沉积,相结构,显微形貌,磁性能,平均晶粒尺寸,择优取向,沉积速率,先减,薄膜厚度,柱状结构,结晶性能,性能提高,饱和磁化强度,Ms,矫顽力,Hc,MHz,磁导率,截止频率,fr,GHz,损耗角正切
AB值：
0.285877
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