典型文献
氧化锑锡纳米材料及其薄膜的制备和光电性能的研究进展
文献摘要：
氧化锑锡因其固有的高可见光透过率、良好的红外屏蔽性能和导电性, 可应用于节能建筑、光电器件以及军事隐身等领域, 得到了广泛的研究.主要概述了氧化锑锡纳米材料及其薄膜制备技术的研究现状, 介绍了沉淀法、溶胶-凝胶法、水热法/溶剂热法等纳米材料制备技术, 以及喷雾热解法、脉冲激光沉积法、磁控溅射法和涂覆法等薄膜制备技术, 分析了锑掺杂浓度、干燥方式、煅烧温度、氧气流量、薄膜厚度等工艺参数对氧化锑锡纳米材料及其薄膜的结构特征、光电性能的影响.介绍了氧化锑锡薄膜在光电、建筑、军事等领域的应用现状, 总结了各种制备技术的优缺点, 并就该领域存在的问题及未来的研究和应用方向进行了讨论和展望.
文献关键词：
氧化锑锡;纳米材料;薄膜;透过率;电阻率
中图分类号：
作者姓名：
康浩;杨明庆;牛春晖;刘力双;王京飞;吕勇
作者机构：
北京信息科技大学仪器科学与光电工程学院,北京 100192
文献出处：
引用格式：
[1]康浩;杨明庆;牛春晖;刘力双;王京飞;吕勇-.氧化锑锡纳米材料及其薄膜的制备和光电性能的研究进展)[J].中国材料进展,2022(03):197-205
A类：
氧化锑锡
B类：
光电性能,可见光透过率,屏蔽性能,导电性,节能建筑,光电器件,隐身,薄膜制备,制备技术,沉淀法,溶胶,凝胶法,水热法,溶剂热法,纳米材料制备,喷雾热解法,脉冲激光沉积法,磁控溅射法,涂覆法,掺杂浓度,干燥方式,煅烧温度,氧气流量,薄膜厚度,研究和应用,应用方向,电阻率
AB值：
0.264551
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