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倾斜耦合的光栅耦合器研究进展
文献摘要：
近年来,片上光子集成技术备受关注并飞速发展,但在光纤与芯片、芯片与芯片上实现高效、高可靠性的光耦合仍是难题.光栅因其制作简单,位置灵活,对准容差大及可实现片上测试等一系列优点而备受研究者的关注.目前在绝缘体上硅(SOI)平台和绝缘体上铌酸锂(LNOI)平台上已开发出大量的光栅耦合器件,并获得较高的耦合效率和大带宽.该文主要介绍光栅耦合器的工作原理和主要性能指标,阐述了均匀光栅、倾斜光栅、闪耀光栅和切趾光栅耦合的特点及现阶段进展,并对具有代表性的一维光栅性能指标进行了比较.结果表明,分布式布喇格反射镜和金属反射镜可有效地提升光栅耦合效率.此外,该文还介绍了基于LNOI平台的几种光栅耦合器,其可帮助研究者们梳理光栅耦合器的发展历程、研究现状及各耦合器的特点,为未来研究提供一定的参考.
文献关键词：
光栅耦合;绝缘体上硅(SOI);耦合效率;闪耀光栅;切趾光栅
中图分类号：
作者姓名：
张一凡;庄永勇;杨柳;杜波波;刘鑫;胡庆元;夏钰坤;张磊;魏晓勇;徐卓
作者机构：
西安交通大学电子陶瓷与器件教育部重点实验室,多功能材料与结构教育部重点实验室,国际电介质研究中心,电子科学与工程学院,陕西西安710049;江西匀晶光电技术有限公司,江西九江332000
文献出处：
引用格式：
[1]张一凡;庄永勇;杨柳;杜波波;刘鑫;胡庆元;夏钰坤;张磊;魏晓勇;徐卓-.倾斜耦合的光栅耦合器研究进展)[J].压电与声光,2022(04):570-587
A类：
切趾光栅
B类：
光栅耦合器,片上光子集成,集成技术,光纤,高可靠性,光耦合,对准,容差,绝缘体上硅,SOI,铌酸锂,LNOI,耦合效率,大带宽,匀光,倾斜光栅,闪耀光栅,一维光栅,金属反射镜,助研,理光
AB值：
0.224286
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