典型文献
钛离子对无氰电镀镉耐蚀性能的影响
文献摘要：
为了提高镉镀层的综合性能,通过在纯镉镀液中添加钛离子,利用电沉积法制备镀层,以提高无氰电镀镉镀层的致密性和耐蚀性能.用场发射扫描电子显微镜(FESEM)观察镀层表面及截面的微观形貌,并分析镀层内应力;用X射线衍射仪(XRD)分析镀层的相组成以及晶粒尺寸大小;用电化学工作站研究镀层的耐蚀性能.结果表明:在无氰镀镉镀液中加入钛离子后,镀层的晶粒尺寸从44.6 nm降低至16.5 nm;自腐蚀电位由-0.232 V升高到0.089 V;自腐蚀电流密度由3.56 mA/dm2降低至2.58 mA/dm2;在5000 s内,纯镉镀层使渗氢电流密度降低至8.6μA/cm2,而加入钛离子后的镀层使渗氢电流密度降至3.2μA/cm2,降低速率远大于纯镉镀层.钛离子的引入使镀层结晶更加细致,增强了镀层的耐蚀性,提升了镀层对氢的阻挡能力.
文献关键词：
无氰电镀镉;钛离子;微观形貌;晶粒尺寸;耐蚀性
中图分类号：
作者姓名：
罗明生;陈玮;潘梓鑫;翟瑞森;王春霞
作者机构：
南昌航空大学材料科学与工程学院,江西 南昌 330063
文献出处：
引用格式：
[1]罗明生;陈玮;潘梓鑫;翟瑞森;王春霞-.钛离子对无氰电镀镉耐蚀性能的影响)[J].材料保护,2022(11):78-82,106
A类：
无氰电镀镉
B类：
钛离子,离子对,耐蚀性能,镀层,电沉积法,致密性,场发射扫描电子显微镜,FESEM,微观形貌,内应力,相组成,晶粒尺寸,电化学工作站,无氰镀镉,自腐蚀电位,自腐蚀电流密度,mA,dm2,渗氢,低速率,远大于,加细,阻挡
AB值：
0.20353
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