典型文献
电-磁场协同增强HiPIMS技术的CrAl靶放电行为及CrAlN薄膜制备
文献摘要：
基于常规高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)存在的问题,发展了新型HiPIMS放电模式:电-磁场协同增强高功率脉冲磁控溅射((E-MF)HiPIMS).研究新型放电模式下CrAl靶的放电行为及CrAlN薄膜的沉积特性.结果表明,不同工作气压下,CrAl靶放电电流波形随靶脉冲电压的变化规律相似.随脉冲电压的增大,CrAl靶脉冲峰值电流线性增加,随着氮气流量的增大,CrAl靶脉冲峰值电流线性增加,随着复合直流的增大,CrAl靶电流上升速度不变但靶脉冲峰值电流出现明显降低.与常规HiPIMS相比,(E-MF)HiPIMS技术制备的CrAlN薄膜表面更加光滑、平整,且表面粗糙度仅为4.123 nm.CrAlN薄膜的生长结构更加致密而紧凑,晶粒也更加细小、均匀.此外,(E-MF)HiPIMS技术制备的CrAlN薄膜样品的摩擦因数显著降低,且磨损后的磨痕宽度小、磨损处仅出现间断型的表面磨损,摩擦磨损性能更加优异.同时样品的腐蚀电位较大提高、腐蚀电流大幅减小,表现出更优异的耐腐蚀性能.
文献关键词：
高功率脉冲磁控溅射;CrAl靶;放电特性;CrAlN薄膜;生长形貌
中图分类号：
作者姓名：
李春伟;田修波
作者机构：
东北林业大学工程技术学院 哈尔滨 150040;哈尔滨工业大学先进焊接与连接国家重点实验室 哈尔滨 150001
文献出处：
引用格式：
[1]李春伟;田修波-.电-磁场协同增强HiPIMS技术的CrAl靶放电行为及CrAlN薄膜制备)[J].中国表面工程,2022(05):155-162
A类：
CrAl
B类：
场协同,协同增强,HiPIMS,CrAlN,薄膜制备,高功率脉冲磁控溅射,放电模式,MF,沉积特性,工作气压,放电电流,电流波形,脉冲电压,脉冲峰值电流,电流线,氮气流量,靶电流,流上,上升速度,表面粗糙度,生长结构,紧凑,晶粒,加细,细小,摩擦因数,磨痕,摩擦磨损性能,时样,腐蚀电位,腐蚀电流,耐腐蚀性能,放电特性,生长形貌
AB值：
0.260683
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