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电子屏蔽罩支架平面度超差原因分析及控制
文献摘要：
屏蔽罩支架是屏蔽罩的重要组成部分,为解决屏蔽罩支架产品的平面度超差问题,对其产生原因和工艺优化进行了分析.首先,采用数值模拟技术,探讨了顶料力、压边及压边力和板料工艺结构等因素对屏蔽罩支架成形质量的影响,结果表明,增大顶料力、添加压边圈并全拉深、增加压边力、改进工艺结构有利于抑制该薄板冲压件的翘曲倾向.然后,根据影响因素设计了优化方案并最终通过实物实验,发现在精冲结束后增加一道过压量为0.01 mm的过压整形工序,以及更改引伸工序前面板料工艺结构为C型的优化方案有利于抑制翘曲,同时采用两种优化方案可以将平面度从0.6～0.8 mm减小至0.3～0.5 mm.
文献关键词：
屏蔽罩支架;平面度;回弹;翘曲;精冲
中图分类号：
作者姓名：
张金梁;曹建国;邵长伟;杜磊;武欢;代先东
作者机构：
四川大学机械工程学院, 四川成都 610065;长江机械有限公司, 四川泸州 646000
文献出处：
引用格式：
[1]张金梁;曹建国;邵长伟;杜磊;武欢;代先东-.电子屏蔽罩支架平面度超差原因分析及控制)[J].锻压技术,2022(11):109-115
A类：
屏蔽罩支架
B类：
电子屏,平面度,超差原因,分析及控制,产生原因,数值模拟技术,压边力,板料,工艺结构,支架成形,成形质量,大顶,压边圈,拉深,改进工艺,薄板,冲压件,翘曲,精冲,整形,更改,引伸,前面板,回弹
AB值：
0.31555
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