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新型碳纳米管微焦点电子源研究
文献摘要：
介绍了一种基于碳纳米管场发射的新型微焦点电子源技术.利用激光烧蚀镍金属表面使内部未氧化的镍金属熔化喷出暴露于基底表面,再通过化学气相沉积制备出直径约为350μm的半球壳型碳纳米管薄膜阴极.场发射测试表明,电子源具有低开启电场(<1V/μm)、高发射电流(可达1A/cm2)和高压强发射稳定等特点.通过复合石墨烯和750℃真空高温退火,高压强发射稳定性得到进一步提高.该工作提供了一种制备强流微尺度场发射阴极的有效途径.
文献关键词：
场发射电子源;化学气相沉积;多壁碳纳米管;石墨烯;激光烧蚀
中图分类号：
作者姓名：
祝维;陆群旭;钱维金;黄卫军;董长昆
作者机构：
温州大学 温州市微纳光电器件重点实验室,浙江 温州 325035
文献出处：
引用格式：
[1]祝维;陆群旭;钱维金;黄卫军;董长昆-.新型碳纳米管微焦点电子源研究)[J].真空,2022(01):48-53
A类：
场发射电子源
B类：
激光烧蚀,金属表面,熔化,喷出,化学气相沉积,直径约,半球,球壳,碳纳米管薄膜,测试表明,1V,1A,石墨烯,高温退火,发射稳定性,微尺度,场发射阴极,多壁碳纳米管
AB值：
0.304447
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