典型文献
                达曼光栅的设计与制作方法探讨
            文献摘要:
                    研究基于二元光学的达曼光栅理论和设计方法,设计5x5分束达曼光栅.分别采用"减法"和"加法"加工方案制备器件."减法"工艺方案包括,优化了氧化硅光栅制作中曝光、显影及深刻蚀工艺参数等关键工艺技术;"加法"工艺方案研究了氮化硅薄膜的制备及刻蚀工艺的问题.研究并制备了两种工艺方法的达曼光栅器件.实验结果表明,"减法"工艺方案的零级衍射场均匀分布的5×5点阵,总的衍射效率达到53%,不均匀性仅为0.19%;"加法"工艺方案的总的衍射效率为59%,不均匀性仅为0.16%;实验结果与理论设计的相符,验证了理论设计与工艺技术的可靠性.
                文献关键词:
                    达曼光栅;设计;制作;衍射效率
                中图分类号:
                    作者姓名:
                    
                        王晓玲;周哲海;周丽
                    
                作者机构:
                    北京信息科技大学机械行业现代光电测试技术重点实验室,北京 100192
                文献出处:
                    
                引用格式:
                    
                        [1]王晓玲;周哲海;周丽-.达曼光栅的设计与制作方法探讨)[J].激光杂志,2022(02):15-20
                    
                A类:
                5x5
                B类:
                    达曼光栅,设计与制作,制作方法,分束,减法,加法,加工方案,工艺方案,氧化硅,硅光,曝光,刻蚀工艺,关键工艺技术,方案研究,氮化硅薄膜,工艺方法,零级,均匀分布,点阵,衍射效率,不均匀性,理论设计
                AB值:
                    0.289648
                
            机标中图分类号,由域田数据科技根据网络公开资料自动分析生成,仅供学习研究参考。